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2025年
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2026年
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2027年
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中國深圳國際光刻膠材料展會將集中展示光刻膠材料行業(yè)的**新產(chǎn)品與技術(shù),為企業(yè)樹立品牌形象,促進(jìn)貿(mào)易合作、市場開發(fā),引領(lǐng)行業(yè)趨勢,加強生產(chǎn)、研發(fā)、銷售互動,深入洞悉國內(nèi)外光刻膠材料及應(yīng)用市場未來發(fā)展新風(fēng)向,以發(fā)展的眼光挖掘未來光刻膠材料市場的新需求,創(chuàng)新展會內(nèi)涵,全方位、多層次組織專業(yè)觀眾,我們竭力將此次展覽會辦成光刻膠材料展覽會界同仁交流的舞臺,推動光刻膠材料展覽會科技創(chuàng)新、提供發(fā)展商機,著力打造互惠共贏的平臺!
參展范圍
1.PCB光刻膠、干膜光刻膠、濕膜光刻膠、LCD光刻膠、TFT正性膠、彩色光刻膠、黑色光刻膠、G線光刻膠、線光刻膠、KRF光刻膠、ARF光刻膠、CCD攝像頭彩色濾光片光刻膠、MEMS光刻膠、觸摸屏透明光刻膠、生物芯片光刻膠、LED光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠等:
2.高粘度光刻膠、EUV光刻膠、干法光刻膠、化工藝光刻膠、半導(dǎo)體高端光刻膠、光刻膠配套試劑(PSPI)光刻膠、正性光刻膠、紫外線正膠、紫外線負(fù)膠、光刻膠光敏劑、光刻膠殘膠收集裝置、光刻膠專用化學(xué)品、光刻膠的顯影和剝離、涂膠顯影設(shè)備、彩色光刻膠、光敏聚酰亞胺、聚酰亞胺(PI)、光刻膠材料、光刻工藝材料、光刻膠單體材料、半導(dǎo)體化合物、光刻膠聚合物。
3.ASML光刻機、IC前道光刻機、紫外光刻機(EUV)光學(xué)、光刻設(shè)備、光刻膠用光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑)光刻膠樹脂、光刻膠去除劑、溶劑、螯合劑、 緩蝕劑、光致產(chǎn)酸劑、鋯前驅(qū)體集、生產(chǎn)、檢測等